マルチスペクトル・エリプソメーターは、薄膜の特性評価と正確な測定の取得に優れています。

マルチスペクトル・エリプソメーターは優れた基本的なエリプソメーターです。信頼性が高く、使いやすく、メンテナンスが少なく、コストパフォーマンスに優れています。

マルチスペクトル・エリプソメーターのソフトウェアは、私が使用した経験のあるすべてのエリプソメーターの中で最も直感的で使いやすいソフトウェアです。私たちのお気に入りの機能は、マルチサンプル解析法です。この機能を使用すると、さまざまな厚さの少数のサンプルを測定するだけで、新しいフィルムまたは適合性の低いフィルムの光学定数を決定できます。実際の厚さの値を知っている必要はありません。

マルチスペクトル・エリプソメーターを使用することにより、レジスト膜の膜厚を簡便に非破壊で計測することができるようになり、エッチング評価を迅速に行えます。

マルチスペクトル・エリプソメーターのマルチサンプル解析法を使用することで、膜厚の増加によって光学定数が異なる金属サンプルにおいても膜厚と光学定数を同時に決定することが可能で高精度な膜厚評価が可能になります。

マルチスペクトル・エリプソメーターは、薄膜堆積プロセスのデータ収集と理解を大いに促進しました。装置は真空チャンバーに比較的簡単に組み込むことができ、基本的な操作を説明するためのユーザーフレンドリーなマニュアルとチュートリアルが含まれています。このツールを使用すると、ex situ技術では実行できない、ALD半サイクル間の測定など、堆積中にはるかに多くの情報を収集できます。

マルチスペクトル・エリプソメーターで収集したin situの膜厚計測により、ex situよりもはるかに迅速にMOCVDの条件をスクリーニングすることができるようになりました。