ソフトエッチング装置 (SEDE)
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親水化やクリーニングをダメージなく処理 PDMSも簡単に接着
高出力モデルが新登場！
高効率なドライエッチングが可能に
CF4を利用した高出力ドライエッチング
SEDE-PHLはCF4ガスを導入し、1000Vの高出力プラズマを安定して照射することができるため、これまで大型高周波設備でなければ難しかったドライエッチングを小型卓上モデルで実現。 処理の難しいTiO2サンプルも短時間で均一にエッチング処理することができます。
フォトレジストパターン上からエッチング処理を行い、マスク除去後のAFM像です。TiO2サンプルは5分間（40ｍA)で40nm、Siサンプルでは2分間（20mA）で6nmが均一にエッチングされている事がAFMの測定データより確認できます。面方向均一処理のため下層に存在する材料への影響を最小限に抑えた処理が可能です
資料御提供：東京大学 大学院工学系研究科 マテリアル工学専攻 矢嶋 赳彬様
酸化物材料のCF4ドライエッチングに使用しています。手軽なプラズマ装置では、エッチングをしようとして代わりに別のものが「堆積」されることがよくありますが、本装置では十分にパワーを上げることで、単結晶チタン酸化物基板でもエッチングすることができます。
フォトレジストと組み合わせれば、トレンチ構造なども作成可能です。
理想的な円筒状照射を実現
SEDE-PFA ソフトエッチング装置（大口径オート・マニュアル兼用モデル）は、高圧電源パワーに集中された技術を見直し、設計から変更しました。特殊電極構造で、電流がエッジに集まらない理想的な円筒照射、かつ試料ステージ全域で均一照射できます。
これに対し、一般的な並行平板型電極のエッチング装置では、電極板間の電位が試料ステージ周囲の直角エッジ部に誘引されます。また各部の誘電率の高い部位への散乱照射が多く、脆弱化されたパワーとムラのあるプラズマになり、試料ステージ周囲にプラズマのほとんどが引っ張られる現象になります。結果的には試料はステージの中央部30～40％のみの範囲でないと均一に照射できません。
卓上型で広範囲均一照射
特殊電極構造での理想的な円筒状プラズマ照射を実現したSEDE シリーズは、一般的なエッチング装置と比べ、試料ステージ上の均一照射面積比が大幅にアップしました。
試料ステージ面積が同径の一般市販品と比べSEDE シリーズの均一照射面積比は、SEDE-PFA では2 倍以上、SEDE-GE では1.5 倍以上の照射面積で、コンパクトな卓上型エッチング装置でありながら大きな試料の処理ができます。
大口径モデルは、μ-TAS の研究領域でご使用頂けるよう、手のひらサイズ（名刺2 枚）を均一照射できるよう設計しました。接着材を用いることなく、プラズマ処理だけでPDMS 基盤全面の強力接着ができます。
ダメージレスのソフトエッチング
陽極・陰極の特殊設計により、スパーキングのない低電流での安定したプラズマ放電を実現。温度による影響がほとんどないソフトプラズマで、有機物でもダメージフリーでクリーニングができます。また、均一でソフトなエッチング処理ができるためサンプル極表面のコンタミ除去やエッチングにも最適です。
長時間処理でも安定照射を実現
SEDEの特殊設計技術により、安定しにくい低電流のプラズマ放電も、長時間安定して行えるようになりました。円筒状で乱れのない低出力プラズマ放電を長時間安定して照射できるため、サンプル表面にダメージを与えない、再現性の高いサンプル処理が行えます。
さらにSEDE-PFA にはオートモードがあり、条件設定にはマニュアル操作か、オート+ マニュアル調整を加え、短時間で設定が行えます。同じ処理を行うサンプルにはオートモードで簡単操作。どなたが行っても、ボタン１つで同じ結果が得られる『再現性』を実現しました。
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