マグネトロンデスクスパッタコーター(DST1-300)
半導体、誘電体、金属 (酸化性および非酸化性) の均一なコーティング
- 2段ロータリーベーン真空バックアップポンプ（ダイヤフラムおよびスクロールポンプ）
- フルレンジ真空計（ライボルト）
- 1 nmの精度と1 Åの分解能を備えた水晶厚さモニター
- ターボ分子ポンプ （ライボルト）
- 電子ガスバルブ
- 2年間の保証
- CE適合性
コンパクトなコーティングシステム
マグネトロンデスクスパッタコーター(DST1-300)は、直径 300 mm の大型チャンバーで半導体、誘電体、金属 (酸化性および非酸化性) の均一なコーティングを微粒子サイズで耐久性のある方法で堆積できるコンパクトなコーティング システムです。2、3、または 4 インチの水冷式マグネトロン カソードを備えた大型チャンバーは、直径 15 cm までの大型試料や、同様の直径の複数の小型試料のコーティングに最適です。
研究目的だけでなく走査型電子顕微鏡(SEM) サンプルの準備にも使用できるスパッタコーターとして構成されています。この高真空コーターは、FE-SEM、EDS/WDS、TEM、EBSDなどの高解像度と高品質の特性評価を必要とする試料に適した、微細な粒径を持つ高品質で均一なフィルムを提供します。
時間無制限のスパッタリング
スパッタリング時間は無制限なので、厚い層の堆積に適しています。
シングルマグネトロンターゲットコーターには、600 W DC電源、または自動マッチングボックス付きの300 W RF電源（オプション）が装備されています。
高真空システムDST1-300は、マイクロおよびナノエレクトロニクス、SEMサンプル準備などの薄膜アプリケーション向けに、さまざまな表面に幅広い酸化および非酸化金属（金（Au）、白金/パラジウム（Pt/Pd）合金、銀（Ag）、クロム（Cr）、タングステン（W）、イリジウム（Ir）など）、金属酸化物（TiO2、ZnOなど）、誘電体を堆積できます。
クリーンバキューム
真空チャンバーは円筒形のパイレックスです。
内部に 90 L/s ターボ分子ポンプが取り付けられており、6 m 3 /h の 2 段ロータリー ベーン ポンプがバックアップされています。
これにより、通常の拡散ポンプで通常発生するオイル汚染のないクリーンな真空が得られます。
サンプルホルダー
ユーザーの要件に応じて、さまざまなカスタマイズされたサンプルホルダーを装備できます。
標準サンプル回転ホルダーは、回転可能で、高さと角度を調整でき、簡単に変更できます。
