ベンチトップモレキュラープリンター (NanoeNabler)
最小Φ１μmでスポット作製、ライン作製も可能 フェムトリッター（FL）からのプリンティング技術
AFMカンチレバーを応用したパターニングツール
極微量スポットが実現
- AFMの技術の応用によって、最小Φ1μmのスポットが実現
- 各プローブ対してリザーバーが存在するので、多種類のサンプルを同時にスポットできます。
- 毎回のスポット時に基材表面の粗さを自動感知するので、あらゆる基板に対応します。
ダイレクト分子プリンティング法
万年筆状のペン先から極微量の溶液を滴下しパターニングします。 原子間力顕微鏡のカンチレバーを応用して開発した独自のツールです。
その他特長
- 広範囲にハイスピードスポッティング。50 × 50 mm 範囲を30秒以内（1スポット＝Φ 5 μm）＜ 100 msec / Spot
- タンパク質や核酸、オリゴヌクレオチド、ナノパーティクル、ウイルス抗体などを極微量で高速パターニング可能。
- あらゆる基材（ガラス、金膜、ポリマー、シリコン）にパターン可能。
- バイオセンサーへの応用：微小領域に各種修飾が可能。
- マイクロコンタクトプリンティング法よりも微細で正確なパターニングが可能。
スポットのポジションを迅速に判別できるインデックス
スポットのポジションを迅速に判別できるようインデックスがついています。（The Sindex™ Chips）
簡単操作なソフトウェアインターフェース
アレイパターン（サイズ・ライン）をグラフィカルに設定ができます。
